消息称三星计划量产的 1c DRAM 使用 MOR 光刻胶

消息称三星计划量产的 1c DRAM 使用 MOR 光刻胶

IT之家 4 月 30 日消息,根据韩媒 TheElec 报道,三星正在考虑在其下一代 DRAM 极紫外(EUV)光刻工艺中应用金属氧...
三星电子会长李在镕访问蔡司总部,深化 EUV 光刻和先进半导体设备合作

三星电子会长李在镕访问蔡司总部,深化 EUV 光刻和先进半导体设备合作

IT之家 4 月 29 日消息,据三星官方新闻稿,三星电子会长李在镕于当地时间 26 日访问蔡司位于德国奥伯科亨的总...
三星电子会长李在镕访问蔡司总部,深化 EUV 光刻和先进半导体设备合作

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光刻机巨头 ASML 核心业务将留在荷兰,拟在埃因德霍芬大举投资

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IT之家 4 月 23 日消息,荷兰光刻机制造商 ASML 与埃因德霍芬市政府签署了一份意向书,计划扩大在该市的业务规...
英特尔 High NA EUV 光刻机今年晚些时候投入研发工作,有望在三代节点沿用

英特尔 High NA EUV 光刻机今年晚些时候投入研发工作,有望在三代节点沿用

IT之家 4 月 22 日消息,英特尔近日宣布完成世界首台商用 High NA EUV 光刻机的安装。而在上周的一场电话会议...
消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻,提升图案质量

消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻,提升图案质量

IT之家 4 月 19 日消息,综合外媒 SemiAnalysis 和 The Elec 报道,英特尔考虑在未来的 High NA EUV 光刻节点导...
英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装,计划明年投入研发使用

英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装,计划明年投入研发使用

感谢IT之家网友 华南吴彦祖 的线索投递! IT之家 4 月 19 日消息,英特尔今日宣布其已在位于美国俄...
阿斯麦向客户交付第二台 High NA EUV 光刻机,买家身份成谜

阿斯麦向客户交付第二台 High NA EUV 光刻机,买家身份成谜

IT之家 4 月 18 日消息,荷兰半导体设备制造商阿斯麦(ASML)近日向一家未披露名称的公司交付了其第二台高数值孔...
阿斯麦向客户交付第二台High NA EUV光刻机,买家身份成谜

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IT之家 4 月 18 日消息,荷兰半导体设备制造商阿斯麦(ASML)近日向一家未披露名称的公司交付了其第二台高数值孔...
阿斯麦 High-NA EUV 光刻机取得重大突破,成功印刷 10 纳米线宽图案

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IT之家 4 月 18 日消息,荷兰阿斯麦 (ASML) 公司宣布,其首台采用 0.55 数值孔径 (NA) 投影光学系统的高数值孔...
光刻机制造商阿斯麦一季度净利润 12 亿欧元,环比下降 40%

光刻机制造商阿斯麦一季度净利润 12 亿欧元,环比下降 40%

IT之家 4 月 17 日消息,今日光刻机制造商阿斯麦(ASML)公布了 2024 年第一季度业绩,财报显示,该公司当季总净销售...
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证,性能优于大多数商用光刻胶

我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证,性能优于大多数商用光刻胶

感谢IT之家网友 软媒用户1353584 的线索投递! IT之家 4 月 2 日消息,据湖北九峰山实验室消息,作为...
我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证,性能优于大多数商用光刻胶

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感谢IT之家网友 软媒用户1353584 的线索投递! IT之家 4 月 2 日消息,据湖北九峰山实验室消息,作为...
ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型技术,晶圆吞吐量提升近 22%

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IT之家 3 月 27 日消息,据荷兰媒体 Bits&Chips 报道,ASML 官方确认新款 0.33NA EUV 光刻机 ——NXE:3800E 引...
产业人士称尼康正向中国“头部”新能源汽车品牌供应光刻机设备

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感谢IT之家网友 lemon_meta、西窗旧事 的线索投递! IT之家 3 月 25 日消息,第一财经今日发布了对...
台积电和新思科技将NVIDIA开创性计算光刻平台投入生产

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【TechWeb】3月19日消息,NVIDIA宣布,为加快下一代先进半导体芯片的制造速度并克服物理限制,TSMC 和 Synopsys ...
三星与应用材料合作,减少 4nm 工艺中 EUV 光刻使用

三星与应用材料合作,减少 4nm 工艺中 EUV 光刻使用

IT之家 3 月 8 日消息,据韩媒 etnews 近日报道,三星电子正与应用材料合作,以降低其 4nm 工艺中 EUV 光刻的用量...
三星研究员悲观看待 EUV 光刻技术寿命,认为 High-NA 方案面临成本问题

三星研究员悲观看待 EUV 光刻技术寿命,认为 High-NA 方案面临成本问题

IT之家 3 月 8 日消息,三星研究员 Young Seog Kang 在近日举行的 SPIE 先进光刻 + 图案化会议的小组讨论中对...
氖气价格“过山车”式飙升,三星考虑用回收氖气:明年满足 75% 光刻需求

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IT之家 3 月 8 日消息,由于俄乌冲突,氖气价格自 2022 年以来一路飙升,2021 年韩国进口价格为 58 美元 / 升,而 2...
250 名工程师耗时 6 个月安装,英特尔展示 ASML 首台 High-NA EUV 光刻机交付过程

250 名工程师耗时 6 个月安装,英特尔展示 ASML 首台 High-NA EUV 光刻机交付过程

IT之家 3 月 5 日消息,英特尔携手 ASML 宣布高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”里程碑后,近日再...
英特尔德国马格德堡晶圆厂将引入High-NA EUV光刻机

英特尔德国马格德堡晶圆厂将引入High-NA EUV光刻机

据德媒 heise 和 Hardwareluxx 报道,英特尔近日依德国环保规定公布了其位于德国马格德堡的 Fab29 晶圆厂项目...
英特尔公布德国马格德堡 Fab29 晶圆厂蓝图,将引入 High-NA EUV 光刻机

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IT之家 3 月 1 日消息,据德媒 heise 和 Hardwareluxx 报道,英特尔近日依德国环保规定公布了其位于德国马格德...
High-NA 光刻导致单芯片最大面积减半,imec、英特尔各想办法

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IT之家 2 月 29 日消息,下一代光刻技术 High-NA 即将在未来数年中投入使用,但其目前面临单芯片最大面积减半的...
ASML 高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”,助英特尔开启工艺进化

ASML 高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”,助英特尔开启工艺进化

感谢IT之家网友 Diixx 的线索投递! IT之家 2 月 28 日消息,英特尔技术开发负责人 Ann Kelleher 在...
消息称 SK 海力士今年将增 8 台 EUV 光刻机,推动 DRAM 内存产品技术演进

消息称 SK 海力士今年将增 8 台 EUV 光刻机,推动 DRAM 内存产品技术演进

感谢IT之家网友 西窗旧事 的线索投递! IT之家 2 月 27 日消息,韩媒 etnews 近日报道称 SK 海力士...
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