gridf IT之家 3 月 5 日消息，英特尔携手 ASML 宣布高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”里程碑后，近日再次分享了一段视频，展示了在英特尔位于美国俄勒冈州的 D1X 工厂内，ASML 工程团队安装调试的部分画面。
英特尔在视频中记录了第一台光刻扫描仪 ASML Twinscan EXE:5000 的交付过程，从视频来看相关组件是通过空运从荷兰运到美国的，因此相比海运可以进一步缩短交货时间。
ASML 于今年 2 月展示了 High-NA 极紫外 (EUV) 光刻机，价值 3.5 亿欧元（IT之家备注：当前约 27.2 亿元人民币），重量相当于两架空客 A320 客机，被 ASML 公司宣称为芯片制造商参与人工智能热潮的“必备品”。
ASML 发言人 Monique Mols 在公司位于荷兰费尔霍芬的总部举行的媒体参观活动中表示，安装这台重达 150000 公斤的系统共计用时 6 个月，需要 250 个集装箱和 250 名工程师。
相关阅读：
《ASML 展示价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机，重达 15 万公斤》
《ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单，预计到 2028 年可将年产量提高到 20 台》
《ASML 高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”，助英特尔开启工艺进化》
广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，IT之家所有文章均包含本声明。
投诉水文 我要纠错
微信扫一扫打赏
支付宝扫一扫打赏
评论列表()